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  • Gemimi/Apollo去胶系统
Trion创建于1989年,是一家等离子刻蚀与沉积系统制造商
Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。 从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。

Gemini,Apollo去胶机
新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平。但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决:Gemini和Apollo。
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利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率, 可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求, 每套系统可以结合SST-Lightning微波源 (既可靠又没有任何常见的微波调谐问题)或ICP技术。

刻蚀速率高达6微米/分
—吞吐量高
等离子损伤低
自动匹配网络
适用于100mm到300mm基片
设备占地面积小
价格具竞争性



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